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包括硅片清洗、脱水烘培、硅片成底膜三个步骤。哈默纳科伺服关节谐波SHG-25-120-2UJ气相成底膜采用湿法清洗和去离子水冲洗以去除玷污物,通过脱水烘培去除水汽,然后马上用六甲基二硅烷(HMDS)进行成底膜处理,它起到提高粘附力的作用。成底膜过程通常在如图2.15所示自动化轨道系统上与其他工艺按顺序完成。
2.旋转涂胶
光刻胶最基本的组成是有哈默纳科伺服关节谐波SHG-25-120-2UJ机溶剂中的一种聚合物溶液。光刻胶的物理特性包括分辨率、对比度、敏感度、粘滞性、粘附性、抗蚀性、表面张力、存储与传送特性、玷污和哈默纳科伺服关节谐波SHG-25-120-2UJ颗粒控制等。光刻胶主要有两个作用:将掩膜版上的图形转移到光刻胶上