KRI 射频离子源 RFICP 220
KRI 射频离子源 RFICP 220
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    商品详情

      上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅极离子源.

      离子束流: >800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 压力: < 0.5m Torr

      离子束可聚焦, 平行, 散射.

      采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长.

      通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.


      伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

      离子源型号

      RFICP 220

      Discharge

      RFICP 射频

      离子束流

      >800 mA

      离子动能

      100-1200 V

      栅极直径

      20 cm Φ

      离子束

      聚焦, 平行, 散射

      流量

      10-40 sccm

      通气

      Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

      典型压力

      < 0.5m Torr

      长度

      30 cm

      直径

      41 cm

      中和器

      LFN 2000

      * 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量


      伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 应用领域:

      1. 预清洗

      2. 表面改性

      3. 辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

      4. 溅镀和蒸发镀膜 PC

      5. 离子溅射沉积和多层结构 IBSD

      6. 离子蚀刻 IBE


      KRI 射频离子源相关应用案例:

       

      1. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 应用于离子刻蚀 IBE

      2. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 325 辅助 LED-DBR 镀膜

      3. 伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)

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